N2 BWS 是同Wafer Sorter搭载一起的，减少wafer表面的膜反应。
可以存放800/1600/3200片不等数量的晶圆
通过少量的N2流量吹扫，实现低氧，低湿度，高洁净度的环境控制。
可实现Auto Teaching
通过Wafer前方的可开启关闭的shutter结构，减小取放片时的开口尺寸。
N2 BWS 是同Wafer Sorter搭载一起的，减少wafer表面的膜反应。
可以存放800/1600/3200片不等数量的晶圆
通过少量的N2流量吹扫，实现低氧，低湿度，高洁净度的环境控制。
可实现Auto Teaching
通过Wafer前方的可开启关闭的shutter结构，减小取放片时的开口尺寸。
| 型号： | BWS800 RI76172 | ||||
| 搬送对象： | 300mm | Wafer ： | Φ300±0.2mm | 厚度： | 775μm±20μm |
| 料盒： | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
| 电源电压： | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
| 电流消耗： | 10kVA (30A/200VAC) 含FFU在内 | ||||
| 真空（元压） ： | -80kPa～-90kPa | ||||
| 真空（流量） ： | 60L/min | ||||
| Air（元压） ： | 0.6MPa～0.7MPa | ||||
| Air（流量） ： | 30L/min | ||||
| N2（元压） ： | 0.4MPa～0.5MPa | ||||
| N2（流量） ： | 300L/min | ||||
| 型号： | BWS1600 RI76192 | ||||
| 搬送对象： | 300mm | Wafer ： | Φ300±0.2mm | 厚度： | 775μm±20μm |
| 料盒： | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
| 电源电压： | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
| 电流消耗： | 10kVA (30A/200VAC) 含FFU在内 | ||||
| 真空（元压） ： | -80kPa～-90kPa | ||||
| 真空（流量） ： | 60L/min | ||||
| Air（元压） ： | 0.6MPa～0.7MPa | ||||
| Air（流量） ： | 30L/min | ||||
| N2（元压） ： | 0.4MPa～0.5MPa | ||||
| N2（流量） ： | 600L/min | ||||
| 型号： | BWS3200 RSC2E2 | ||||
| 搬送对象： | 300mm | Wafer ： | Φ300±0.2mm | 厚度： | 775μm±20μm |
| 料盒： | 300mm FOUP 25段(SEMI E47.1) 300mm FOSB 25 段(SEMI M31) | ||||
| 电源电压： | 3相 AC208V±10% 50/60Hz±5% | ||||
| 电流消耗： | 25kVA (75A/200VAC) 含FFU在内 | ||||
| 真空（元压） ： | -80kPa～-90kPa | ||||
| 真空（流量） ： | 60L/min | ||||
| Air（元压） ： | 0.6MPa～0.7MPa | ||||
| Air（流量） ： | 30L/min | ||||
| N2（元压） ： | 0.4MPa～0.5MPa | ||||
| N2（流量） ： | 1200L/min | ||||
